| 缩写名/全名 |
J LASER APPL
JOURNAL OF LASER APPLICATIONS |
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| ISSN号 | 1042-346X | ||||||||||||||||||||||||||||
| 研究方向 | 物理-光学 | ||||||||||||||||||||||||||||
| 影响因子 | 2015:1.078, 2016:1.492, 2017:1.597, 2018:1.443, 2019:1.41, | ||||||||||||||||||||||||||||
| 出版国家 | UNITED STATES | ||||||||||||||||||||||||||||
| 出版周期 | Quarterly | ||||||||||||||||||||||||||||
| 年文章数 | 142 | ||||||||||||||||||||||||||||
| 出版年份 | 1988 | ||||||||||||||||||||||||||||
| 是否OA | No | ||||||||||||||||||||||||||||
| 审稿周期(仅供参考) | >12周，或约稿 |
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| 录用比例 | 容易 | ||||||||||||||||||||||||||||
| 投稿链接 | http://jla.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex | ||||||||||||||||||||||||||||
| 投稿官网 | http://scitation.aip.org/content/lia/journal/jla | ||||||||||||||||||||||||||||
| h-index | 43 | ||||||||||||||||||||||||||||
| CiteScore |
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| PubMed Central (PMC)链接 | http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1042-346X%5BISSN%5D | ||||||||||||||||||||||||||||
| 中科院SCI期刊分区 （ 2018年新版本） |
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